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更新時間：2024-11-13
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氬離子設備
對於表麵分析，樣品表麵極易被汙染。
為了清潔被汙染的固體表麵,在能譜分析中,常常利用離子設備發出的離子束對樣品表麵進行濺射剝離,以清潔表麵。
利用離子設備發出的離子束定量地剝離一定厚度的表麵層,然後再分析表麵成分,這樣就可以獲得元素成分沿深度方向的分布圖。
同時，離子設備也兼具中和樣品表麵荷電的作用。
一、氬離子設備原理圖
▲ 圖1 氬離子設備原理圖
二、氬離子設備實圖
▲圖2 氬離子設備圖
三、氬離子設備主要作用
> 清潔(樣品表麵被汙染)
清潔被汙染的樣品表麵,利用離子設備發出的離子束對樣品表麵進行濺射剝離,以清潔表麵
> 濺射(對樣品進行深度剖析)
利用離子設備發出的離子束定量地剝離一定厚度的表麵層,然後再分析表麵成分,以獲得元素成分沿樣品深度方向的分布
> 荷電中和
中和樣品表麵的荷電
四、氬離子設備多種參數設定
根據樣品需要設置多種參數選擇性
▲圖3 氬離子設備多種參數選擇
五、不同設備儀器的氬離子設備
▲圖4 氬離子設備在XPS上
▲圖5 氬離子設備在PHI710上
▲圖6 氬離子設備在TOF-SIMS上
六、簡易便捷的氬離子設備燈絲實體圖
▲ 圖7 XPS的氬離子設備燈絲
▲ 圖8 PHI710的氬離子設備燈絲
▲圖9 TOF-SIMS的氬離子設備燈絲
結語
氬離子設備已廣泛應用在各表麵分析設備上，且可以根據樣品進行參數的設定選擇，是進行表麵分析不能缺少的構件。
-轉載於《PHI表麵分析 UPN》公眾號
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